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华海清科 自主知识产权助力国产崛起CMP设备打破国外垄断

华海清科股份有限公司是一家拥有核心自主知识产权的高端半导体设备制造商,主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务,主要产品为化学机械抛光(CMP)设备。据上交所披露信息华海…

华海清科股份有限公司是一家拥有核心自主知识产权的高端半导体设备制造商,主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务,主要产品为化学机械抛光(CMP)设备。据上交所披露信息华海清科股份有限公司(以下简称华海清科)以提交注册排队上市。

公司主营产品是半导体制造的关键工艺设备之一

华海清科的主营产品为CMP设备,CMP(Chemical Mechanical Polishing,化学机械抛光)是半导体制造过程中实现晶圆全局均匀平坦化的关键工艺。芯片制造主要包括光刻、CMP、刻蚀、薄膜和掺杂等关键工艺技术,其中CMP是在芯片制造制程和工艺演进到一定程度、摩尔定律因没有合适的抛光工艺无法继续推进之时才诞生的一项新技术。

集成电路的制造过程好比建多层的楼房,每搭建一层楼层都需要让楼层足够平坦齐整,才能在其上方继续搭建另一层楼,否则楼面就会高低不平,影响整体性能和可靠性,而能够有效令集成电路的“楼层”达到纳米级全局平整的技术就是CMP技术,CMP设备则是对硅片/晶圆自动化实施CMP工艺的超精密装备。除了集成电路制造,CMP设备还可以用于硅片制造环节与先进封装领域。

拥有自主知识产权全国产12英寸CMP打破国外垄断

集成电路生产商使用的硅片根据其直径标准分为6英寸、8英寸、12英寸等类型,目前90nm以下工艺的高端市场普遍采用12英寸。12英寸CMP设备较8英寸相比,直径增长50%、面积扩大125%,其精度要求更高,需要更先进的抛光头超精密分区压力控制技术和更先进的终点检测技术。因此12英寸CMP设备是业界公认的衡量一个厂家CMP设备研发技术水平的标杆产品。

华海清科所生产CMP设备可广泛应用于12英寸和8英寸的集成电路大生产线,产品总体技术性能已达到国内领先水平。公司推出了国内首台拥有核心自主知识产权的12英寸CMP设备并实现量产销售,是目前国内唯一一家为集成电路制造商提供12英寸CMP商业机型的高端半导体设备制造商;公司所产主流机型已成功填补国内空白,打破了国际巨头在此领域数十年的垄断,有效降低了国内下游客户采购成本及对国外设备的依赖,支撑国内集成电路产业的快速发展。

华海清科CMP产品在已量产的制程(14nm以上)及工艺应用中与国外巨头的主要产品不存在技术差距,在客户端线上已经可以实现对国外龙头产品的替代。公司生产的CMP已经广泛应用于中芯国际、长江存储、华虹集团、大连英特尔、厦门联芯、长鑫存储、广州粤芯、上海积塔等行业内领先的集成电路制造企业的大生产线,占据国产CMP销售的绝大部分市场份额。

华海清科主营产品是拥有核心自主知识产权的CMP设备,在应用中得到广大客户认可,在国内占据了绝大部分市场。依托核心技术和广阔的应用市场,未来,如能上市成功得到资本助力。华海清科将成为国际一流半导体供应商。

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作者: admingl

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