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拓荆科技定增回复问询 拟募集资金46亿元

中国上市公司网讯 12月29日,上交所官网显示,拓荆科技股份有限公司(股票简称:拓荆科技,股票代码:688072)定增审核状态变更为“已回复”。 发行方案 股票与保荐:境内上市A股…

中国上市公司网讯 12月29日,上交所官网显示,拓荆科技股份有限公司(股票简称:拓荆科技,股票代码:688072)定增审核状态变更为“已回复”。

发行方案

股票与保荐:境内上市A股(每股面值1元),上交所科创板上市,保荐机构为中信证券。

发行规模:募资总额不超46亿元(含),发行数量不超84,349,179股(不超发行前总股本30%),发行对象不超35名特定投资者,认购方式为现金全额认购,限售期6个月。

发行价格:不低于定价基准日前20个交易日公司股票交易均价的80%,通过竞价方式确定。

募资投向(扣除发行费用后):

高端半导体设备产业化基地建设项目(追加投资15亿元):总投资增至17.68亿元,建设期5年,新增600台/年产能,达产后总产能1100台/年,覆盖PECVD等薄膜沉积设备。

前沿技术研发中心建设项目(20亿元):建设期3年,聚焦先进制程沉积、三维集成等前沿技术,含资本化研发支出6.23亿元。

补充流动资金(11亿元):优化财务结构,降低资产负债率与财务费用。

定增问询回复中主要涉及的内容

募投项目合理性与产能消化(核心焦点)

高端半导体设备产业化基地(追加15亿元):前次项目投资11亿元,本次追加后总投资17.68亿元,建设期5年,新增600台/年产能(总产能达1100台/年),聚焦PECVD等薄膜沉积设备。达产后预计IRR19.36%,投资回收期9.45年,与同行可比项目区间匹配。在手订单107.14亿元(2025年9月末),存货订单覆盖率124.73%,可支撑新增产能消化。

前沿技术研发中心(20亿元):建设期3年,聚焦先进ALD、PECVD及沟槽填充CVD,6.23亿元研发支出资本化(占比53.58%),与中微公司等同行比例接近,符合会计准则。依托9大核心技术、678人研发团队(占比40.72%),ALD实现PE-Thermal全覆盖,PECVD客户端稳定运行超90%,技术储备充足。

补充流动资金(11亿元):优化财务结构,降低67.72%的资产负债率,减少财务费用,支撑主业扩张。

前募项目管理与合规性

前募调整与非资本性支出:前募变更前非资本性支出占比77.22%,首次变更降至59.27%,本次追加投资后进一步降至29.78%。调整方式为调减两个研发项目2.5亿元,加部分超募资金共2.68亿元投入产业化基地,符合监管要求。

前募结项与节余:ALD研发项目节余2144.91万元已补流;半导体先进工艺装备研发项目已使用7.22亿元,剩余资金后续规范使用。

财务与募资必要性

融资合理性:2025年1-9月营收42.20亿元(+85.27%)、净利润5.36亿元(+106.04%),经营现金流28.32亿元,同比大幅改善。虽货币资金27.43亿元,但借款35.68亿元,股权融资可优化资本结构,避免债务融资推高负债率。

非资本性支出合规:本次非资本性支出17.91亿元(占比38.94%),超30%的4.11亿元均为与主业相关研发投入,符合监管规定。

技术与经营风险应对

技术壁垒:核心技术覆盖薄膜沉积全流程,9大技术体系支撑,专利储备充足,可满足先进制程与三维集成研发需求。

风险提示:提示产能消化、技术迭代、市场竞争等风险,应对措施包括深化客户合作、强化研发、提升交付效率等。

发行与定价规则

发行要素:发行价不低于均价80%,竞价确定,对象不超35名,限售期6个月,现金认购,符合科创板定增规则。

风险提示:股市有风险,投资需谨慎,以上内容仅供投资者参考,不作为投资决策的依据。转载请注明出处: http://www.ipo123.com.cn/archives/71477
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作者: ID010

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