拓荆科技定增被受理 拟于上交所上市

中国上市公司网讯 12月4日，上交所官网披露了拓荆科技股份有限公司(股票代码：688072，股票简称：拓荆科技)2025年度向特定对象发行A股股票募集说明书(申报稿)，公司定增材料被正式受理。

据悉，拓荆科技本次向特定对象拟发行股票数量不超过本次发行前公司总股本的30%，即本次发行不超过84,349,179股，拟于上海证券交易所上市，保荐机构为中信建投证券。公司本次向特定对象发行股票募集资金总额不超过人民币460,000.00万元，扣除发行费用后的募集资金净额拟投入于高端半导体设备产业化基地建设项目、前沿技术研发中心建设项目、补充流动资金。

公开资料显示，拓荆科技立于2010年4月，是国家高新技术企业，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。拓荆在北京、上海、海宁、青岛、沈阳和美国、BVI、新加坡及日本成立子公司。

拓荆主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备、次常压化学气相沉积(SACVD)设备、高密度等离子体化学气相沉积(HDPCVD)设备、超高深宽比沟槽填充(Flowable CVD)设备和三维集成 (W2W / D2W Hybrid Bonding) 设备以及相关量测设备等系列，拥有自主知识产权，技术指标达到国际同类产品的先进水平。产品主要应用于集成电路晶圆制造、 先进存储和先进封装、HBM、MEMS、Micro-LED 和 Micro-OLED 显示等高端技术领域。

拓荆产品已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的70多条生产线，并设有技术服务中心，为客户提供每周7天，每天24小时的技术支持。 公司已形成一支国际化的专业团队，具备高科技研发实力及管理经验。通过多年技术积累，公司已建立自主知识产权的核心技术群及知识产权体系，被国家知识产权局评为“国家知识产权示范企业(2022-2025)”。