| 介 | 公司主要从事半导体清洗设备和中央供液系统的研发、生产、销售和服务，主要产品或服务包括半导体槽式清洗设备、部件清洗设备、中央供液系统以及相关改造服务、工程服务和配件销售。公司立足自主创新，通过多年的技术研发和工艺积累，生产制造的半导体槽式清洗设备用于芯片制造的晶圆清洗环节，覆盖了 4 英寸、6 英寸、8 英寸晶圆的清洗，为客户提供定制化的设备和工艺解决方案。公司设备和工艺有效地提升了客户的生产效率、提升良品率并降低生产成本，满足了国内晶圆制造产业的设备国产化需求。根据中国科学院上海科技查新咨询中心出具的相关报告，公司生产的设备及应用的核心技术普遍具备新颖性，设备及多项核心技术达到了国内领先及以上水平，主要产品槽式清洗设备达到了国际领先水平。 |
| 主营业务 | 主要从事半导体清洗设备和中央供液系统的研发、生产、销售和服务。 |
IPO信息
| 股票代码 | 874133 | 受理日期 | 2025-06-30 |
| 股票简称 | 提牛科技 | 上会通过日期 | |
| 上市板块 | 北交所 | 提交注册日期 | |
| 发行价格(元/股) | 同意注册日期 | ||
| 发行市盈率 | 刊登发行公告日期 | ||
| 网上发行股数(万股) | 网上路演日期 | ||
| 战略配售发行数量(万股) | 网上发行日期 | ||
| 总发行数量(万股) | 中签号公布日期 | ||
| 网上发行中签率(%) | 上市日期 | ||
| 募集资金总额(亿元) |
基本资料及发行相关资料
| 公司名称 | 上海提牛科技股份有限公司 | 英文名称 | Shanghai STN Technology Co., Ltd |
| 成立日期 | 2004 年 10 月 25 日 | 注册资本(人民币元) | 32,132,590 |
| 行业分类 | C35 专用设备制造业 | 雇员总数(人) | 64（截至2024年末） |
| 法人代表 | 葛林五 | 董事长 | 葛林五 |
| 总经理 | 葛林五 | 董事会秘书 | 张子阳 |
| 注册地址 | 上海市奉贤区堂富路 88 号 101 室 | 办公地址 | 上海市奉贤区堂富路 88 号 101 室 |
| 电话 | 021-37500100 | 传真 | 021-51062806 |
| 公司网址 | www.stn-semi.com | 电子邮件 | zzy@stn-semi.com |
| 保荐人(主承销商) | 华创证券有限责任公司 | 保荐代表人 | 王江、杨晋逸 |
| 会计师事务所 | 天职国际会计师事务所（特殊普通合伙） | 经办会计师 | 郭海龙、李雯敏 |
| 律师事务所 | 北京市安博律师事务所 | 经办律师 | 王守亮、焦显光、宋俊生 |
| 资产评估机构 | 沃克森（北京）国际资产评估有限公司 | 经办评估人员 | 姜海成、翟潇磊 |
募集资金用途
| 项目 | 投资总额(万元) |
| 高端半导体清洗设备生产基地项目 | 21,535.79 |
| 研发中心建设项目 | 5,736.54 |
| 营销及技术服务中心建设项目 | 2,727.67 |
| 投资金额总计 | 30,000.00 |
前十大股东（发行前）
| 股东名称 | 持股数量(万股) | 占总股本比例(%) |
| 科德顺 | 1,458.5145 | 45.39 |
| 茂贤合伙 | 1,277.9366 | 39.77 |
| 葛林五 | 319.4841 | 9.94 |
| 泽弘裕 | 69.4531 | 2.16 |
| 科益硕 | 49.3117 | 1.53 |
| 王兆峰 | 38.5590 | 1.20 |
| 合计 | 3,213.2590 | 100.00 |
行业内其他主要企业
| 分类 | 公司名称 | 主要业务 |
| 晶圆清洗设备企业 | 迪恩士（SCREEN Holdings Co.,Ltd.） | 迪恩士成立于 1943 年，是日本半导体专用设备和 LCD 生产设备公司，客户遍及日本、韩国和中国台湾地区。迪恩士主要产品为清洗设备、刻蚀设备、涂胶、显影设备等。 |
| 东京电子（Tokyo Electron Limited） | 东京电子成立于 1963 年，是日本半导体设备制造企业，是全球第二大半导体设备供应商。东京电子提供多种类的半导体生产设备，包括气相沉积设备、涂胶/显影设备、热处理成膜设备、干法刻蚀设备、化学气相沉积、湿法清洗设备、测试设备及平板液晶显示设备等。 | |
| 拉姆研究（Lam Research Corporation） | 拉姆研究成立于 1980 年，是美国半导体设备制造企业，是全球前三大半导体设备制造商。该公司的主要产品包括用于制造集成电路的刻蚀设备、气相沉积设备、电镀设备、清洗设备等半导体加工设备。 | |
| 盛美上海（688082.SH） | 盛美半导体设备（上海）股份有限公司成立于 2005 年 5 月，主要产品包括清洗设备、半导体电镀设备、立式炉管系列设备、前道涂胶显影设备、等离子体增强化学气相沉积设备、无应力抛光设备、后道先进封装工艺设备以及硅材料衬底制造工艺设备等,为全球集成电路行业提供先进的设备及工艺解决方案。 | |
| 北方华创（002371.SZ） | 北方华创科技集团股份有限公司成立于 2001 年 9 月，主要从事领域是半导体基础产品，包括半导体装备、真空及锂电装备和精密电子元器件等，公司在行业中具有较强的核心竞争能力。 | |
| 芯源微（688037.SH） | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司成立于 2002 年 12 月，主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，产品包括光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备，可用于 8/12 英寸单晶圆处理及 6 英寸及以下单晶圆处理。 | |
| 至纯科技（603690.SH） | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司成立于 2000 年 11 月，主营业务为半导体制程设备、工艺支持设备的研发和生产销售，以及由此衍生的高纯工艺系统建设、电子材料、部件清洗及晶圆再生等服务。公司的主要产品为高纯工艺集成系统、半导体设备、光传感及光器件 | |
| 中央供液系统企业 | 至纯科技（603690.SH） | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司成立于 2000 年 11 月，主营业务为半导体制程设备、工艺支持设备的研发和生产销售，以及由此衍生的高纯工艺系统建设、电子材料、部件清洗及晶圆再生等服务。公司的主要产品为高纯工艺集成系统、半导体设备、光传感及光器件。 |
| 仕净科技（301030.SZ） | 苏州仕净科技股份有限公司成立于 2005 年 4 月，主营业务为制程污染防控设备、末端污染治理设备的研发、生产和销售。公司的主要产品与服务为酸碱废气处理设备、氮氧化物处理设备、危险气体处理设备、有机废气处理设备、粉尘处理设备、废水处理设备、纯水处理设备、CDS 处理设备、脱硫脱硝一体化设备、氮氧化物处理设备、硫化物处理设备、远程在线监测系统、环保工程服务、托管运维服务、第三方检测服务。 | |
| 盛剑科技（603324.SH） | 上海盛剑科技系统科技股份有限公司成立于 2012 年 6 月，主营业务为泛半导体工艺废气治理系统及关键设备的研发设计、加工制造、系统集成及运维管理。公司主要产品与服务有工艺废气治理系统解决方案、化学品供应与回收再生系统解决方案等。 | |
| 正帆科技（688596.SH） | 上海正帆科技股份有限公司成立于 2009 年 10 月，主营业务是向泛半导体、生物制药等高科技产业及先进制造业客户提供制程关键系统与装备、关键材料和专业服务。公司主要产品包括工艺介质供应系统、高纯特种气体、洁净室配套系统。 |
客户和供应商
| 前五大客户(2024年) | 前五大供应商(2024年) |
| 客户 C | 喜开理（上海）机器有限公司 |
| 四川爱德中创建设工程有限公司 | 上海岩濑国际贸易有限公司 |
| 斯达半导 | 上海铍乐贸易有限公司 |
| 捷捷微电 | 上海艾斯创自动化科技有限公司 |
| 江苏方硕建设集团有限公司 | SMC 自动化有限公司 |
主要财务指标
| 财务指标/时间 | 2024年12月 | 2023年12月 | 2022年12月 |
| 总资产(元) | 410,356,756.76 | 379,687,909.86 | 284,453,183.12 |
| 净资产(元) | 139,869,098.70 | 95,048,948.62 | 58,224,844.49 |
| 少数股东权益(元) | – | – | – |
| 营业收入(元) | 147,992,114.64 | 128,891,999.89 | 88,851,771.41 |
| 净利润(元) | 49,084,922.47 | 44,683,783.53 | 30,836,966.87 |
| 资本公积(元) | 6,723,022.67 | 13,736,024.51 | 3,441,412.35 |
| 未分配利润(元) | 86,237,348.73 | 49,628,699.18 | 29,381,522.64 |
| 基本每股收益(元) | 1.53 | 1.41 | 1.05 |
| 稀释每股收益(元) | 1.53 | 1.41 | 1.05 |
| 每股现金流(元) | 1.11 | 0.52 | 1.04 |
| 净资产收益率(%) | 41.15 | 57.52 | 60.76 |
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